GR5 Titanium Targetmateriale refererer til sputteringskilden som danner forskjellige funksjonelle filmer på underlaget ved magnetronforstøvning, flerbue-ionplettering eller andre typer belegningsutstyr under passende prosessforhold. Sputtering-mål er mye brukt i dekorasjon, former, glass, elektroniske enheter, halvledere, magnetisk opptak, flydisplay, solceller og mange andre felt.

Renhet er en av hovedytelsesindeksene til målmaterialet fordi renheten til målmaterialet har stor innflytelse på den tynne ytelsen.

Ulike målmaterialer har ulike krav til ulikt urenhetsinnhold under ulike forhold.

Vanligvis er målmaterialet polykrystallinsk med kornstørrelser fra mikron til millimeter. For det samme målet er forstøvningshastigheten til målet med finkornet raskere enn målet med grovkornet. De tynne filmene avsatt ved målsputtering med mindre kornstørrelsesforskjeller (jevn fordeling) har en jevnere tykkelsesfordeling.

Titanium Sputtering Target Leverandører

High Purity Titanium Sputtering Target Titanium-sprutmål med høy renhet