3/4" hantråd sintret SS316L pulverfilterpatron for CMP-slamsirkulasjonsfiltrering

TOPTITECHs 3/4" sintrede SS316L pulverfilterpatron med hanngjenger er konstruert spesifikt for CMP-slurry-sirkulasjonsfiltrering i planariseringsprosesser for halvlederwafer. Kald isostatisk pressing og høy-vakuumsintring transformerer gass-forstøvet 316L porinisk pulver-kontrollert pulverfritt stålstruktur med porinisk, pulverfritt stål. størrelsesfordelingen. Den 3/4" utvendige gjengeforbindelsen muliggjør direkte fall-i eksisterende CMP-slurryleveringssystemer, inkludert resirkuleringsløkker og{12}}brukspunkter ved poleringsputens manifold. Dybdefiltreringsmekanisme fanger store partikkelforurensninger-silikaagglomerater, ceria-rester og overdimensjonerte slipemidler-i det sammenkoblede porenettverket samtidig som slurryens slipende integritet opprettholdes. Filtreringsgradene fra 0,2 µm til 65 µm rommer både silika-baserte oksidoppslemminger og ceriumoxid-baserte STI-oppslemminger.

CMP-slurry-nedbrytningsforbindelser-som slipende aggregater, gelpartikler fra nedbrytning av overflateaktive stoffer, metalliske rester fra rørkorrosjon og bakterielle biprodukter fra resirkulasjonslagring -legger seg konsekvent i filterkaken på patronoverflaten. Hel-metallkonstruksjonen eliminerer mediemigrasjonsrisiko som er vanlig i polymer- eller fiber-baserte kassetter, og forhindrer nedstrøms wafer-defekter, inkludert mikroriper, uklarhet og mønsterskader fra fremmedpartikkelforurensning. 3/4" sintret hantråd SS316L pulverfilterpatron tåler gjentatte sykluser 0 alkalisk rengjøring (12H) regenerering uten strukturell nedbrytning Gjenbrukbar på tvers av flere produksjonskampanjer, leverer denne kassetten 5-10 års levetid sammenlignet med 2-4 ukers erstatningssykluser av engangspolymeralternativer, noe som reduserer forbrukskostnader og nedetid for halvledere betydelig.

• Materiale: SS316L pulver
• Størrelse: φ40*400mm
• Porestørrelse: 0,5um
• Kobling: 3/4: utvendig gjenge
• Porøsitet: 30%-40%
• Teknikk: Sintering

I. Partikkeloppbevaring uten forbigående-risiko

Gass-atomisert 316L sfærisk pulver komprimerer og sintrer til en monolittisk dybdefiltreringsmatrise, og leverer en absolutt nominell fjerning ned til 0,2 μm til 60 μm. Den sintrede strukturen eliminerer interne bypass-kanaler og medium migrasjon som finnes i sår- eller laminerte design. Dybdefiltrering fanger opp abrasive agglomerater-silika, ceriumoksid, aluminiumoksidaggregater-gjennom det porøse nettverket, ikke bare på overflaten. Ikke-avstøtende egenskaper forhindrer forurensning av oppstrøms slurry-resirkulasjonssløyfer og putedispenseringsenheter. Nøyaktig porestørrelsesfordeling fra kald isostatisk pressing og sintring i hydrogenatmosfære sikrer konsistent filtreringseffektivitet over flere produksjonspartier.

 

 

II. Høy smussholdende kapasitet og forlenget levetid

 

Den 3/4" hanngjengekassetten tilbyr stor smussholdende kapasitet, fanger opp slurry-nedbrytningsforbindelser-gelpartikler fra nedbrytning av overflateaktive stoffer, metalliske rester fra rørkorrosjon, bakterielle biprodukter fra resirkulasjonslagring-med lavt initialt trykkfall. Høy porøsitet (30–40 %) og jevn porøsitet (30–40 %) og jevn porøsitet under lav filtrasjonsmotstand og kontinuerlig lav C-bestandighet. slurrysirkulasjon Forlenget levetid reduserer filterbyttefrekvensen, kritisk for waferfabrikker med høy gjennomstrømning.

III. Overlegen kjemisk og termisk stabilitet

SS316L sintret konstruksjon tåler ekstreme pH-miljøer (pH 10–12) som finnes i silika- og cerium-baserte oppslemmingsformuleringer. Molybdeninnhold gir gropbestandighet og beskyttelse mot kloridspenningskorrosjon sammenlignet med 304L-kvaliteter. Monolitisk fullmetallstruktur motstår skade fra høyt trykk, vekslende belastningssykluser og temperatursvingninger under drift av resirkulasjonspumpen.

 

IV.Rengjørbare, regenererbare og lave totale eierkostnader

 

Helt metallkonstruksjon støtter flere rengjøringsmetoder: tilbakespyling, ultralydbad eller oksidasjonsbrenning ved høy temperatur. Alkaliske rengjøringssykluser (pH 10–12) og ultralydregenerering gjenoppretter opprinnelig permeabilitet uten strukturell nedbrytning. Patronen gir en 5-til-10x lengre levetid sammenlignet med engangspolymer (PTFE/PVDF) eller fiberbaserte filtre, noe som drastisk reduserer forbrukskostnader og nedetid for verktøy.

V. Direkte drop-in ettermontering med 3/4" utvendig gjenge

3/4" hann-NPT-gjengeforbindelse integreres sømløst i eksisterende CMP-slurryleveringssystemer-resirkulasjonssløyfer, brukspunktsammenstillinger ved poleringsputemanifolder-uten ekstra adaptere. Kompatibel med standard filterhus, muliggjør feltutskifting i løpet av minutter. Lasersveisede ende-grensesnitt og undersveisede ende-grensesnitt Høyflytende, høyvibrerende wafer-fabrikasjonsmiljøer Tilpassbare endebeslag, gjengetyper og generelle dimensjoner tilgjengelig i henhold til kundens krav.

 

VI. Fungerer i høytemperaturgass- og væskeapplikasjoner

 

Gjelder utover slurryfiltrering til gassdistribusjonslinjer, dampfiltrering og kjemisk overføring med høy renhet. Egnet for høytemperaturgassfiltrering opp til 600 grader, med termisk stabilitet i autoklaversteriliseringssykluser der polymermembraner brytes ned. Gir tilleggsfunksjoner: støyreduksjon for pneumatisk eksos, gassbuffring i CMP-verktøyets pneumatiske kontroller, og flammehemming for farlige gassledninger.

1. CMP slurry sirkulasjonsfiltrering i halvlederwaferplanarisering

Den 3/4" sintrede SS316L pulverfilterpatronen med hanngjenger fjerner overdimensjonerte abrasive agglomerater (silika, ceriumoksid, kolloidalt silika) fra kjemisk mekanisk planariseringsslam samtidig som effektive poleringspartikler mellom 10–200 nm bevares. partikler fra nedbrytning av overflateaktive stoffer, metalliske rester fra rørkorrosjon-i det sammenkoblede porenettverket uten bypass-kanaler. Absolutt oppbevaring eliminerer mikroriper, uklarhet og mønsterskader på waferoverflater, og forbedrer dyseutbyttet i avansert logikk- og minnefabrikasjon av {{10}sløyfesammensetninger{10}. verktøy, med 3/4" hann-NPT-gjenger som muliggjør rask feltutskifting uten husmodifikasjoner.

2. Katalysatorgjenvinning i raffinerier og petrokjemiske prosesser

Den 3/4" hanngjengede sintrede SS316L pulverfilterpatronen opererer under høyt differensialtrykk (~30 bar) i separasjonsoppgaver for væske-faste stoffer og gass-faste stoffer på tvers av hydrocrackere, hydrobehandlere og FCC-enheter. Fanger opp edelmetallkatalysatorer (platina, palladium, raney-zeolite-nikkel-reaktor) avløpsstrømmer, gjenvinning av katalysatorfinstoffer ned til 0,5 μm Høy åpen porøsitet (30–50 %) og stivt sintret nettverk motstår erosjon fra høyhastighets katalysatorslurrystrømmer, noe som muliggjør utvidede on-stream-sykluser mellom tilbakespylingsregenereringer.

3. Høy-gass- og damprensing

Den 3/4" sintrede sintrede SS316L pulverfilterpatronen tåler kontinuerlig drift opp til 600 grader i oksiderende atmosfærer, noe som gjør den egnet for forfiltrering av røykgassavsvovling, CEMS-sondebeskyttelse (Continuous Emission Monitoring System) og fjerning av støv ved høy temperatur fra gassifier tørr syngassteam 00 grader. , fjerning av rustpartikler, røravleiringer og karbonavleiringer som skader sterile dampsteriliseringsfiltre nedstrøms Også egnet for fjerning av trykkluftolje, avduging i gass-væskekoalescerer og steril ventilasjonsfiltrering for fermentorer og bioreaktorer.

4. Korrosiv kjemisk og løsemiddelbehandling

316L molybdeninnhold gir gropmotstand i kloridholdige medier (sjøvann, blekemiddel, saltsyreservice) der 304 rustfritt stål svikter. Den 3/4" hanngjengede sintrede SS316L pulverfilterpatronen filtrerer sterke polare løsningsmidler (DMF, NMP, aceton), konsentrert svovelsyre, kaustiske sodaløsninger og organiske syrer uten materialnedbrytning. Dybdefiltrering fanger opp katalysatorfinstoff fra hydrogeneringsreaktorer fra monomersløyfe- og resirkuleringssløyfer, fjerner varmeoverførings- og polymersløyferester. i raffinerisystemer Bred kjemisk kompatibilitet passer både kontinuerlig prosessfiltrering og batchoperasjoner med hyppige skifte av løsemidler.

5. Hydrogen energi og elektrolysesystemer

Mikroporøs sintret 316L-struktur fungerer som hydrogendiffusorlag i PEM-elektrolysatorer og alkaliske vannelektrolysesystemer. Den 3/4" sintrede SS316L-pulverfilterpatronen med hanngjenger fanger opp ioniske urenheter og partikkelformige forurensninger fra resirkulerende elektrolyttstrømmer, og beskytter membranelektrodesammenstillinger mot nedbrytning. Brukes også som gass-væskeseparasjonselement ved elektrolysatoruttak, og fjerner komprimeringsgass og lagring av hydrogengass.

6. Industrielt vann- og avløpsvannbehandling

Den 3/4" sintrede SS316L pulverfilterpatron med hanngjenger polerer omvendt osmose som gjennomsyrer i halvledere ultrarent vannsystemer, fjerner sporpartikler ned til 0,22 μm for å møte SEMI-standarder for wafer-skylling. Utplassert i produsert vannfiltrering for flowing fra injeksjon av oljefelt og tilbakekjøling av fast stoff. nedblåsing Også anvendelig som sluttpoleringsfilter i CIP-returlinjer, som fanger opp sveisesprut, pakningsrester og korrosjonsprodukter fra rørnett i rustfritt stål.

Tlf: 0917-3873009

Telefon: +86 18992731201

E-post:zhangjixia@bjygti.com

Faks: 0917-3873009

Adresse: No. 195, Gaoxin Avenue, High-Tech Development Zone, Baoji City, Shaanxi, Kina

WhatsApp: +86 18992731201

Populære tags: 3/4" sintret sintret ss316l pulverfilterpatron for cmp slamsirkulasjonsfiltrering, Kina, leverandører, produsenter, tilpasset, bruk, prisliste, til salgs, på lager, gratis prøve, porøst materiale